发明名称 METHOD OF PATTERNING A LOW-K DIELECTRIC FILM
摘要 <p>저-k 유전체 막들을 패터닝하는 방법들이 설명된다. 예에서, 저-k 유전체 막을 패터닝하는 방법은, 저-k 유전체 층 위에 마스크 층을 형성하고 패터닝하는 단계를 수반한다. 저-k 유전체 층은 기판 위에 배치된다. 방법은 또한, 플라즈마 프로세스로 저-k 유전체 층의 노출된 부분들을 변형시키는 단계를 수반한다. 방법은 또한, 동일한 동작에서, 저-k 유전체 층의 변형되지 않은 부분들 및 마스크 층에 대해 선택적으로, 저-k 유전체 층의 변형된 부분들을 원격 플라즈마 프로세스로 제거하는 단계를 수반한다.</p>
申请公布号 KR20150036534(A) 申请公布日期 2015.04.07
申请号 KR20157003609 申请日期 2013.06.21
申请人 发明人
分类号 H01L21/3065;H01L21/308;H01L21/3105;H01L21/311 主分类号 H01L21/3065
代理机构 代理人
主权项
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