| 摘要 |
<p>탄소 주입 동안 이온 소스 수명의 연장 및 이온 소스 성능의 개선을 위한 신규한 방법 및 시스템이 제공된다. 구체적으로, 탄소 이온 주입 공정은 x≥1 및 y≥1인 화학식 CxFy로 표현되는 탄소를 갖는 1종 이상의 불소 함유 기체 및 일산화탄소를 포함하는 도펀트 기체 혼합물을 활용하는 단계를 포함한다. 탄소를 갖는 적어도 1종의 불소 함유 기체는 도펀트 기체 혼합물의 부피 기준 약 3 내지 12 부피 퍼센트(vol%)로 혼합물에 포함된다. 불소 이온, 라디칼 또는 이들의 조합은 이온화된 도펀트 기체 혼합물로부터 방출되고 반사 전극, 추출 전극 및 챔버의 표면 중 적어도 하나를 따라 탄소로부터 실질적으로 유래한 침착물과 반응하여 침착물의 총량을 감소시킨다. 이러한 방식으로, 단일 도펀트 기체 혼합물은 탄소 이온을 제공할 수 있고 탄소 주입 동안 전형적으로 부딪히는 넓은 범위의 문제인 침착물을 제거하여 없앨 수 있다.</p> |
