Lithographic Apparatus And Device Manufacturing Method
摘要
<p>투영 시스템의 제 1 요소와 투영 시스템의 제 2 요소 사이에 진동이 전파되는 정도를 감소시키기 위한 수단들이 제공된 리소그래피 장치 및 디바이스 제조 방법들이 개시된다. 개시된 접근법들은 진동 격리 시스템의 일부분으로서 일렬로 된 복수의 탄성 부재들, 제 1 및 제 2 투영 시스템 프레임들을 따로 지지하는 복수의 격리 프레임들, 그리고 제 1 및 제 2 투영 시스템 프레임들과 격리 프레임(들) 사이에 상호작용을 위한 수정된 연결 위치들의 사용을 포함한다.</p>
申请公布号
KR101508224(B1)
申请公布日期
2015.04.06
申请号
KR20110138871
申请日期
2011.12.21
申请人
에이에스엠엘 네델란즈 비.브이.;칼 짜이스 에스엠테 게엠베하
发明人
반 데르 비스트, 마르크 빌헬무스 마리아;버틀러, 한스;루프스트라, 에릭 로엘로프;게이페르트, 베른하르트;아우데 니하위스, 마르코 헨드리쿠스 헤르마누스;구글리엘미 라베, 로돌포;관, 임 번 패트릭;라로, 딕 안토니우스 헨드리쿠스
