发明名称 Heat Treatment Chamber of Substrate with Easy Maintenance, and Heat Treatment Apparatus and Method of Substrate Having the Same
摘要 <p>본 발명은 유지보수가 용이한 기판 열처리 챔버, 및 이를 구비한 기판 열처리 장치 및 방법을 개시한다. 본 발명에 따른 기판 열처리 챔버는 열처리 챔버 하우징; 및 상기 열처리 챔버 하우징에 각각 슬라이딩 방식으로 착탈가능하게 장착되는 제 1 및 제 2 상부 및 하부 가동 플레이트 하우징을 포함하고, 상기 열처리 챔버 하우징 및 상기 제 1 및 제 2 상부 및 하부 가동 플레이트 하우징은 기판을 열처리하기 위한 열처리 공간을 형성하는 것을 특징으로 한다.</p>
申请公布号 KR101508752(B1) 申请公布日期 2015.04.06
申请号 KR20130101392 申请日期 2013.08.26
申请人 发明人
分类号 H01L21/324 主分类号 H01L21/324
代理机构 代理人
主权项
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