| 摘要 |
3D 이미징 장치는, 복수의 개별 이미터를 포함하는 레이저 어레이와 구조광 패턴을 제공하기 위한 마스크를 포함 - 레이저 어레이와 마스크 사이의 거리는 복수의 개별 이미터의 불균일성 프로필과 마스크 평면에 걸친 광 강도 분포와 관련 있는 균일성 기준에 따라 최소화됨 - 하고, 물체에 구조광 패턴을 비추기 위한 투사 옵틱을 포함하는 투사기와, 투사된 구조광 패턴으로 물체의 이미지를 캡쳐하도록 구성된 이미징 센서와, 범위 파라미터를 결정하기 위해 이미지를 처리하도록 구성된 프로세싱 유닛을 포함한다. |
