レジスト上層膜形成用組成物、レジストパターン形成方法、化合物、化合物の製造方法及び重合体

摘要

本発明は、下記式（１）で表される構造単位（Ｉ）を有する重合体を含む重合体成分、及び溶媒を含有するレジスト上層膜形成用組成物である。下記式（１）中、Ｒ１は、水素原子又は炭素数１〜２０の１価の有機基である。Ｒ２は、単結合又は炭素数１〜２０の２価の有機基である。Ｒ３は、水素原子又は炭素数１〜２０の１価の有機基である。ＲＱは、炭素数１〜５のパーフルオロアルキル基である。ＲＸは、水素原子又は１価の塩基解離性基である。