真空処理装置

摘要

真空処理装置は、プロセスチャンバと、前記プロセスチャンバに接続されたロードロックチャンバと、前記ロードロックチャンバから前記プロセスチャンバへ基板を移送する移送装置と、を備える。前記移送装置は、前記基板を重力によって移動させるように構成される。前記移送装置は、前記基板が重力によって移動する際の移送路を形成するガイドと、前記基板を保持するときは前記基板の重力による移動を制限し、前記基板を移動させるときは前記制限を解除するストッパと、を備える。