| 摘要 |
フォトリソグラフィ用レチクルを検査するための方法および装置が開示される。レチクルの複数のパッチエリアが画定される。任意のフォトリソグラフィプロセスにレチクルを使用する前に、第一の検査中に光学レチクル検査ツールを使用して、一以上のパッチエリアの複数の組の各々について、レチクルの各パッチエリアの複数のサブエリアから測定された光に対応する複数の基準強度値の基準平均値を取得する。複数のフォトリソグラフィプロセスにおけるレチクルの使用後、第二の検査中に光学レチクル検査ツールを使用して、その一以上のパッチエリアの複数の組の各々について、レチクルの各パッチエリアの複数のサブエリアから測定された光に対応する複数の試験強度値の平均値を取得する。第一の検査と第二の検査との両方に光学レチクル検査ツール用の同じ設定レシピが使用され。強度差マップが生成され、かかるマップは、その一以上のパッチの複数の組の各々について、試験強度値の各平均値と基準強度値の平均値との間の差にその各々が対応する複数のマップ値を包含する。強度差マップは、レチクルが既定のレベルを超えるまで経時的に劣化したか否かを表す。【選択図】図１Ａ |
