Strahlungsquelle zur Erzeugung von kurzwelliger Strahlung aus einem Plasma

摘要

Die Erfindung betrifft eine Strahlungsquelle zur Erzeugung von kurzwelliger Strahlung aus einem Plasma, bei der mindestens ein in ein Schmelzbad flüssigen Metalls partiell eintauchendes umlaufendes Element vorhanden ist. Die Aufgabe, eine neue Möglichkeit zu finden, die es bei einer Strahlungsquelle mit einem umlaufenden Element zur Bereitstellung des Quellenmaterials auf einfache Weise gestattet, aus der Plasmazone herausgeschleudertes oder anderweitig austretendes ungenutztes Quellenmaterial zuverlässig aufzufangen, um Störungen der Strahlungsquelle durch Ablagerungen des ungenutzten Quellenmaterials zu vermeiden, wird gelöst, indem ein Behälter für das nicht ungenutzte Quellenmaterial als eine Auffangwanne ausgebildet ist und eine Wannenöffnung in Richtung der Schwerkraft unterhalb der Plasmazone und unterhalb des Schmelzbades sowie wenigstens eine geneigte Seitenwand aufweist, um das ungenutzte Quellenmaterial großflächig aufzufangen und in einem tiefsten Wannenbereich der Auffangwanne zu konzentrieren, mindestens ein Heizelement zum Heizen des Quellenmaterials auf eine Temperatur oberhalb einer Schmelztemperatur TS an der Auffangwanne anbracht ist und eine Kontrolleinheit zum Regeln der Temperatur des Quellenmaterials in der Auffangwanne mit mindestens einem an der Auffangwanne angebrachten Temperatursensor vorhanden ist.