| 摘要 |
<p>Die Erfindung betrifft einen Spiegel, insbesondere für eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage. Ein erfindungsgemäßer Spiegel (10) weist eine optische Wirkfläche (11), ein Spiegelsubstrat (12), einen Reflexionsschichtstapel (21) zur Reflexion von auf die optische Wirkfläche (11) auftreffender elektromagnetischer Strahlung und wenigstens zwei piezoelektrische Schichten (16a, 16b, 16c), welche zwischen Spiegelsubstrat (12) und Reflexionsschichtstapel (21) in Stapelrichtung des Reflexionsschichtstapels (21) aufeinanderfolgend angeordnet und mit einem elektrischen Feld zur Erzeugung einer lokal variablen Deformation beaufschlagbar sind, auf, wobei zwischen diesen piezoelektrischen Schichten (16a, 16b, 16c) wenigstens eine Zwischenschicht (22a, 22b) aus kristallinem Material angeordnet ist.</p> |
