发明名称 |
一种透明导电薄膜的激光刻蚀方法 |
摘要 |
本发明公开了一种透明导电薄膜的激光刻蚀方法,包括如下步骤:(1)采用短波长红外脉冲激光器输出波长在1.4μm~3.0μm之间的脉冲激光,脉冲宽度为0.1ns~800ns,并进行准直处理,所述短波长红外脉冲激光器为光纤激光器, 单脉冲激光能量为1~2000微焦, 脉冲频率为1千赫兹到1兆赫兹;(2)使所述脉冲激光束照射到放在二维平移台上的薄膜基板上,控制激光束与二维平移台相对运动,使激光束聚焦点在透明导电薄膜上按设定路径移动,进行刻蚀,控制激光和透明导电薄膜相对运动速度为50mm/s~9000mm/s, 光斑交叠程度为10~90%。本发明能够克服现有技术中激光聚焦精度要求高,实现复杂的问题。 |
申请公布号 |
CN104475979A |
申请公布日期 |
2015.04.01 |
申请号 |
CN201410600730.5 |
申请日期 |
2014.10.31 |
申请人 |
苏州图森激光有限公司 |
发明人 |
蒋仕彬 |
分类号 |
B23K26/362(2014.01)I |
主分类号 |
B23K26/362(2014.01)I |
代理机构 |
苏州创元专利商标事务所有限公司 32103 |
代理人 |
陶海锋 |
主权项 |
一种透明导电薄膜的激光刻蚀方法,其特征在于,包括如下步骤: (1)采用短波长红外脉冲激光器输出波长在1.4μm~3.0μm之间的脉冲激光,脉冲宽度为0.1ns~800ns,并进行准直处理,所述短波长红外脉冲激光器为光纤激光器, 单脉冲激光能量为1~2000微焦, 脉冲频率为1千赫兹到1兆赫兹;(2)使所述脉冲激光束照射到放在二维平移台上的薄膜基板上,控制激光束与二维平移台相对运动,使激光束聚焦点在透明导电薄膜上按设定路径移动,进行刻蚀,控制激光和透明导电薄膜相对运动速度为50mm/s~9000mm/s, 光斑交叠程度为10~90%。 |
地址 |
215011 江苏省苏州市苏州高新区竹园路209号 |