发明名称 封装结构及其制作方法
摘要 本发明公开一种封装结构及其制作方法。该封装结构的制作方法包括提供一金属基材。金属基材具有彼此相对的一上表面与一下表面,且上表面上已形成有一种子层。形成一图案化干膜层于金属基材的下表面与种子层上。图案化干膜层暴露出部分种子层。以图案化干膜层为一电镀掩模,以电镀一线路层于图案化干膜层所暴露出的部分种子层上。移除图案化干膜层。接合一芯片至线路层上。芯片与线路层电连接。形成一封装胶体于金属基材上。封装胶体包覆芯片、线路层与部分种子层。移除部分金属基材与部分种子层,以暴露出部分封装胶体。
申请公布号 CN102790140B 申请公布日期 2015.04.01
申请号 CN201110175971.6 申请日期 2011.06.28
申请人 旭德科技股份有限公司 发明人 孙世豪
分类号 H01L33/00(2010.01)I;H01L33/64(2010.01)I;H01L33/48(2010.01)I 主分类号 H01L33/00(2010.01)I
代理机构 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人 陈小雯
主权项 一种封装结构的制作方法,包括:提供一金属基材,该金属基材具有彼此相对的上表面与下表面,且该上表面上已形成有一种子层;形成一图案化干膜层于该金属基材的该下表面与该种子层上,其中该图案化干膜层暴露出部分该种子层;以该图案化干膜层为一电镀掩模,以电镀一线路层于该图案化干膜层所暴露出的部分该种子层上;移除该图案化干膜层;接合一芯片至位于该种子层上的该线路层上,其中该芯片与该线路层电连接;形成一封装胶体于该金属基材上,该封装胶体包覆该芯片、该线路层与部分种子层;以及移除部分该金属基材与部分该种子层,以暴露出部分该封装胶体。
地址 中国台湾新竹县湖口乡新竹工业区光复北路8号