曝光设备及装置制造方法;EXPOSURE APPARATUS AND DEVICE MANUFACTURING METHOD

摘要

一种沉浸式曝光设备包括一用来测量基材的测量区、一用来透过一投影光学系统将该基材曝光之不同于该测量区的曝光区、多个桌台，其被配置(configured)来固持该基材且可移动于该曝光区和该测量区之间、及一控制器，其被配置来控制该等多个桌台的驱动，其中在该等多个桌台的一个桌台被放置在该曝光区内且供应至该一个桌台的沉浸液被保留在该曝光区内且被输送至另一桌台的情形中，该控制器被配置成根据该另一桌台的至少一第一处理位置来决定用于该另一桌台的浸泡液的输送位置。