发明名称 | 发光二极体装置 | ||
摘要 | |||
申请公布号 | TWI479688 | 申请公布日期 | 2015.04.01 |
申请号 | TW100101577 | 申请日期 | 2011.01.14 |
申请人 | 晶元光电股份有限公司 | 发明人 | 杨鸿志;许明祺;徐大正;杨志忠;唐宗毅;陈永昇;萧文裕;廖哲浩;沈豫俊;颜胜宏 |
分类号 | H01L33/20 | 主分类号 | H01L33/20 |
代理机构 | 代理人 | ||
主权项 | 一种发光二极体装置,包含:一基板,具有一第一成长表面与一相对应于该第一成长表面的一底面;一介电层,设置于该第一成长表面上,具有复数开口;复数半导体奈米结构,形成于该基板上并突出于该些复数开口;一半导体层,形成于该些半导体奈米结构上,具有实质平行于该底面的一第二成长表面;以及一发光二极体结构,形成于该第二成长表面,包含连续且实质平行于该底面的复数个量子井结构;其中,至少一该些开口具有一第一直径大于等于250奈米且小于等于600奈米,一奈米结构相对应于该至少一个开口,且具有大于该第一直径的一第二直径。 | ||
地址 | 新竹市新竹科学工业园区力行五路5号 |