| 发明名称 |
Chemical polishing of a semi-conductor substrate |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
US3342652(A) |
申请公布日期 |
1967.09.19 |
| 申请号 |
US19640356793 |
申请日期 |
1964.04.02 |
| 申请人 |
INTERNATIONAL BUSINESS MACHINES CORPORATION |
发明人 |
REISMAN ARNOLD;ROHR ROBERT L. |
| 分类号 |
C23F3/00;H01L21/304;H01L21/306 |
主分类号 |
C23F3/00 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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