| 主权项 |
一种真空热处理装置，包括：一腔室；一反应容器，设置于该腔室之中，且系包括：一容器单元，其内部具有一空间部分，且其一表面系为开放；以及一盖体单元，用以覆盖该容器单元；以及一加热件，用以加热该腔室中之该反应容器，其中该容器单元之一上部分包括一不规则部分，其中该盖体单元包括一第一部分，系藉由覆盖该容器单元之该上部分而与该不规则部分形成一沟槽，以及一第二部分，系形成为凸出状，其中该第二部分插入至该容器单元之该空间部分，且与该容器单元之一侧相隔开来，其中自该空间部分产生的气体透过一间隔空间流动至该第二部分及该容器单元之间并从该沟槽排出。
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