| 摘要 |
垂直共振腔面射型雷射之制造方法具备如下步骤：于基板上形成积层体，该积层体包含第1及第2反射镜层(11、15)、活性层(13)以及成为电流狭窄构造之被氧化层(16)；以至少使被氧化层(16)的侧面露出之方式而对积层体进行加工；以及对积层体进行加工之后，自侧面起使被氧化层(16)氧化，藉此形成电流狭窄构造。上述形成电流狭窄构造之步骤包含如下步骤：沿着载置于导热构件(42)上之均热板(41)且远离均热板(41)而保持基板(SUB)；以及藉由对导热构件(42)进行加热，利用来自均热板(41)之辐射热而对基板(SUB)进行加热。 |
