处理基板的方法与形成三维装置的方法;A METHOD OF TREATING A SUBSTRATE AND A METHOD OF FORMING A THREE DIMENSIONAL DEVICE

摘要

一种处理基板的方法，包括在包含反应性物质的反应性环境的存在下，将离子沿着与基板表面之垂直线形成的至少一个非零角度导向基板，基板包括表面特征。使用离子结合反应性环境，以第一蚀刻速率来蚀刻表面特征中的至少一个表面，此第一蚀刻速率大于在没有反应性环境的情况下将离子导向基板时的第二蚀刻速率，以及大于在提供反应性环境而没有提供离子给基板时的第三蚀刻速率。