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发明名称 碳质膜之制造方法及石墨膜之制造方法
摘要
申请公布号 TWI478868 申请公布日期 2015.04.01
申请号 TW102134026 申请日期 2013.09.18
申请人 钟化股份有限公司 发明人 片山觉嗣;太田雄介;稻田敬;沓水眞琴;西川泰司
分类号 C01B31/02;C01B31/04 主分类号 C01B31/02
代理机构 代理人 陈长文 台北市松山区敦化北路201号7楼
主权项 一种碳质膜之制造方法，其特征在于：于连续碳化装置中，于550℃以上且800℃以下之至少一部分温度下，一面搬送作为碳质膜之原料之高分子膜及/或原料碳质膜，一面对该高分子膜及/或原料碳质膜之厚度方向施加压力，上述高分子膜及/或原料碳质膜系于施加对上述高分子膜及/或原料碳质膜之厚度方向之加压引起的摩擦所产生之力的状态下被搬送。
地址 日本
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