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发明名称
基板处理装置及基板处理方法和记录基板处理程式之电脑可读取之记录媒体
摘要
实现基板处理中之生产率的提升与运转成本的下降。在本发明中,系在以处理液处理基板(3)之后使前述基板(3)乾燥的基板处理装置(1)中,具有:基板旋转机构(22),使前述基板(3)旋转;处理液吐出部(13),对前述基板(3)吐出处理液;置换液吐出部(14),一边相对于前述基板(3)移动,一边朝向前述基板(3)吐出被置换为前述基板(3)上之处理液的置换液;及惰性气体吐出部(15),一边相对于前述基板(3)移动至与前述置换液吐出部(14)不同的方向,一边从前述基板(3)的上方对前述基板(3)斜向外周方向吐出惰性气体。
申请公布号
TW201513204
申请公布日期
2015.04.01
申请号
TW103119351
申请日期
2014.06.04
申请人
东京威力科创股份有限公司 TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人
川渕洋介 KAWABUCHI, YOSUKE;河野央 KAWANO, HISASHI;田中暁 TANAKA, SATORU;铃木启之 SUZUKI, HIROYUKI;大石幸太郎 OOISHI, KOTARO;筱原和义 SHINOHARA, KAZUYOSHI;吉田佑希 YOSHIDA, YUKI
分类号
H01L21/306(2006.01);H01L21/67(2006.01)
主分类号
H01L21/306(2006.01)
代理机构
代理人
林志刚
主权项
地址
日本 JP
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