| 发明名称 | 一种能够延长抛光垫使用寿命的硅晶片精抛光液 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种能够延长抛光垫使用寿命的硅晶片精抛光液，本发明属于化学机械抛光领域，本发明抛光液包括二氧化硅溶胶、碱性化合物、去离子水余量，还包括聚阴离子纤维素、小分子无机非金属桥联剂、水溶性聚合物和胍基化合物。本发明的抛光液减少抛光垫表面毛囊磨损及内部孔的堵塞，显著延长硅晶片最终抛光过程中的抛光垫使用寿命；同时提高了最终抛光后硅晶片表面均匀性。 | ||
| 申请公布号 | CN104479558A | 申请公布日期 | 2015.04.01 |
| 申请号 | CN201410757848.9 | 申请日期 | 2014.12.10 |
| 申请人 | 深圳市力合材料有限公司;清华大学;深圳清华大学研究院 | 发明人 | 潘国顺;顾忠华;龚桦;邹春莉;罗桂海;王鑫;陈高攀 |
| 分类号 | C09G1/02(2006.01)I | 主分类号 | C09G1/02(2006.01)I |
| 代理机构 | 深圳市鼎言知识产权代理有限公司 44311 | 代理人 | 哈达 |
| 主权项 | 一种能够延长抛光垫使用寿命的硅晶片精抛光液，该抛光液包括二氧化硅溶胶、碱性化合物和去离子水，其特征在于：还包括聚阴离子纤维素、小分子无机非金属桥联剂和胍基化合物，其组分及配比为：<img file="FDA0000630132510000011.GIF" wi="1480" he="639" /> | ||
| 地址 | 518108 广东省深圳市南山区松白路西丽南岗第二工业园九栋一楼 | ||