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发明名称 PHOTORESIST COMPOSITION
摘要 <p>The present invention relates to a photoresist composition comprising: a resin having an acid-instability group; an acid generator; a compound having a sulfide bond and a mercapto group; and a solvent.</p>
申请公布号 KR20150033556(A) 申请公布日期 2015.04.01
申请号 KR20140125096 申请日期 2014.09.19
申请人 发明人
分类号 G03F7/004;G03F7/039 主分类号 G03F7/004
代理机构 代理人
主权项
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