| 摘要 |
本发明的一态样的多带电粒子束描画装置，其特征为：具备：电子束成形构件，是形成有描画用的复数第1开口部及在复数第1开口部的周围的非描画用的复数第2开口部，在包含复数第1及第2开口部整体的领域受到带电粒子束的照射，带电粒子束的一部分是藉由各别通过复数第1开口部而形成描画用多电子束，并且带电粒子束的一部分是藉由各别通过复数第2开口部而形成测量用多电子束；及复数标识构件，是被配置在：被配置于形成交叉的高度位置附近的遮蔽开关构件上，或是遮蔽开关构件及遮蔽托板之间；及测量部，是使用复数标识构件，将测量用多电子束的位置测量；及修正部，是修正所测量的测量用多电子束的位置的位置偏离量的方式，修正为了成为朝复数遮蔽装置之中进行描画用多电子束的遮蔽偏向的各遮蔽装置外加之电子束打开(ON)的状态用的电压。 A multi charged particle beam writing apparatus includes a beam forming member, where first openings for writing and second openings not for writing around the first openings are formed, to form multiple beams for writing and to form multiple beams for measurement, plural mark members on a blanking aperture member arranged close to the height position where crossover is formed, a measurement unit to measure positions of the multiple beams for measurement by the plural mark members, and a correction unit to correct a voltage for making a 〝beam on〞 |
