具有改良ＥＳＤ效能之以传导奈米结构为主的薄膜;CONDUCTIVE NANOSTRUCTURE-BASED FILMS WITH IMPROVED ESD PERFORMANCE

摘要

含有一或多个图案化透明导体层之光学堆叠可因在该光学堆叠制程期间发生之静电放电而受到损害。该损害可在该图案化透明导体层内产生非传导导体。一种静电放电保护之光学堆叠可包括基板层、具有约10 6 欧姆(ohm)/平方(Ω/sq)至约10 14 Ω/sq之薄片电阻之第一抗静电层、及图案化透明导体层。本发明提供测试及评估对图案化透明导体之损害之方法。