发明名称 |
落料缓冲方法及装置 |
摘要 |
本发明系一种落料缓冲方法及装置,包括:提供一输送流路,形成在电子元件被进行输送的导管至收集盒间,在该输送流路中通有气体进行对电子元件推送;提供一缓冲件,枢设于该输送流路中,其可作枢转改变缓冲件之缓冲面与输送流路倾斜角度;藉以上方法及所形成之装置,使电子元件落入收集盒收集时,可落抵缓冲件之缓冲面获得缓冲,而在收集盒将电子元件倒出时可顺利排出者。 |
申请公布号 |
TW201512067 |
申请公布日期 |
2015.04.01 |
申请号 |
TW102133412 |
申请日期 |
2013.09.16 |
申请人 |
万润科技股份有限公司 ALL RING TECH CO., LTD. |
发明人 |
李孟全;王安田 |
分类号 |
B65G49/07(2006.01);B65G69/00(2006.01) |
主分类号 |
B65G49/07(2006.01) |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
高雄市路竹区路科十路1号 TW |