发明名称 落料缓冲方法及装置
摘要 本发明系一种落料缓冲方法及装置,包括:提供一输送流路,形成在电子元件被进行输送的导管至收集盒间,在该输送流路中通有气体进行对电子元件推送;提供一缓冲件,枢设于该输送流路中,其可作枢转改变缓冲件之缓冲面与输送流路倾斜角度;藉以上方法及所形成之装置,使电子元件落入收集盒收集时,可落抵缓冲件之缓冲面获得缓冲,而在收集盒将电子元件倒出时可顺利排出者。
申请公布号 TW201512067 申请公布日期 2015.04.01
申请号 TW102133412 申请日期 2013.09.16
申请人 万润科技股份有限公司 ALL RING TECH CO., LTD. 发明人 李孟全;王安田
分类号 B65G49/07(2006.01);B65G69/00(2006.01) 主分类号 B65G49/07(2006.01)
代理机构 代理人
主权项
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