发明名称 |
多元复合涂层的制备装置 |
摘要 |
本实用新型涉及复合涂层制备的技术领域,公开了一种多元复合涂层的制备装置,该装置包括:多个弧源,用于对多种靶材分别起弧对应产生多种等离子体,并使多种等离子体运动;磁场管道,用于通过磁场约束并均匀混合多种等离子体,并使其同时到达待加工基体的表面,该磁场管道的一端与对应的弧源连通;真空腔室,与磁场管道另一端连通,且待加工基体设置于真空腔室内,多种等离子体进入真空腔室内在偏压作用下撞击待加工基体表面形成多元复合涂层。本实用新型通过采用磁场混合技术,将多个纯金属靶材产生的等离子体进行均匀混合,并将这些等离子体加速撞击待加工基体表面形成多元合金涂层,实现了在低成本下制备性能稳定、成分均匀的涂层的目的。 |
申请公布号 |
CN204237863U |
申请公布日期 |
2015.04.01 |
申请号 |
CN201420615208.X |
申请日期 |
2014.10.22 |
申请人 |
深圳市金洲精工科技股份有限公司 |
发明人 |
陈成;张贺勇;屈建国 |
分类号 |
C23C14/35(2006.01)I |
主分类号 |
C23C14/35(2006.01)I |
代理机构 |
深圳中一专利商标事务所 44237 |
代理人 |
张全文 |
主权项 |
多元复合涂层的制备装置,其特征在于,包括:多个弧源,用于对多种靶材分别起弧对应产生多种等离子体,并使多种所述等离子体运动;磁场管道,用于通过磁场约束并均匀混合多种所述等离子体,并使其同时到达待加工基体的表面,该磁场管道的一端与对应的弧源连通;真空腔室,与所述磁场管道另一端连通,且所述待加工基体设置于所述真空腔室内,多种所述等离子体进入所述真空腔室内在偏压作用下撞击所述待加工基体表面形成多元复合涂层。 |
地址 |
518000 广东省深圳市龙岗区中心城龙城北路高科技工业园区 |