| 发明名称 | 一种聚焦圆环及刻蚀反应腔 | ||
| 摘要 | 本实用新型公开了一种结构简单的聚焦圆环及刻蚀反应腔，在圆环下表面设置有至少一个凹槽，用以放置导热胶。有益效果是，由于聚焦圆环本身设置有凹槽，导热胶可直接放置在凹槽中，从而省去了专门的导热胶治具，节约了成本，而且，安装也变得非常简单快捷。 | ||
| 申请公布号 | CN204243008U | 申请公布日期 | 2015.04.01 |
| 申请号 | CN201420503058.3 | 申请日期 | 2014.09.02 |
| 申请人 | 上海华力微电子有限公司 | 发明人 | 邓必文;吕煜坤;朱骏;张旭升 |
| 分类号 | H01L21/67(2006.01)I;H01J37/32(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/67(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人 | 王宏婧 |
| 主权项 | 一种聚焦圆环，其特征在于：在其下表面设置有至少一个凹槽，用以放置导热胶。 | ||
| 地址 | 201203 上海市浦东新区张江开发区高斯路568号 | ||