| 发明名称 | 光刻设备和方法 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种光刻设备和方法，所述光刻方法包括以下步骤：基于由激光器发射至光刻设备的激光器辐射的光谱与通过所述光刻设备被投影到所述衬底上的图案的空间图像的表示，计算激光器度量；和使用所述激光器度量来修改所述激光器的操作或调整所述光刻设备并将所述图案投影到所述衬底上。 | ||
| 申请公布号 | CN102162998B | 申请公布日期 | 2015.04.01 |
| 申请号 | CN201110036875.3 | 申请日期 | 2011.02.10 |
| 申请人 | ASML荷兰有限公司 | 发明人 | C·A·凯勒;H·范德兰;L·C·德温特;H·P·霍德弗里德;F·斯塔尔斯 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人 | 王波波 |
| 主权项 | 一种光刻方法，包括以下步骤：基于由激光器发射的激光器辐射的光谱与被投影到光刻设备内的衬底上的图案的空间图像的表示进行卷积，计算激光器度量；使用所述激光器度量来修改所述激光器的操作或调整所述光刻设备；和将所述图案投影到所述衬底上。 | ||
| 地址 | 荷兰维德霍温 | ||