发明名称 |
粘合剂层、粘合薄膜以及光学设备 |
摘要 |
粘合剂层是通过涂布水分散型粘合剂组合物并使其干燥而得到的。在粘合剂层的表面,厚度方向的深度为0.2~20μm且沿着表面的最大长度为1~10mm的凹部的数目为每1m<sup>2</sup>5个以下。 |
申请公布号 |
CN102947404B |
申请公布日期 |
2015.04.01 |
申请号 |
CN201180031331.6 |
申请日期 |
2011.06.20 |
申请人 |
日东电工株式会社 |
发明人 |
下川佳世;冈田研一;高桥俊贵;木谷义明;下栗大器;卷幡阳介 |
分类号 |
C09J7/02(2006.01)I;C09J133/00(2006.01)I;C09J201/00(2006.01)I;G02B5/30(2006.01)I;C09J7/00(2006.01)I;C09J11/08(2006.01)I |
主分类号 |
C09J7/02(2006.01)I |
代理机构 |
北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 |
代理人 |
刘新宇;李茂家 |
主权项 |
一种光学用粘合剂层,其特征在于,其为通过涂布水分散型粘合剂组合物并使其干燥而得到的粘合剂层, 在所述粘合剂层的表面,厚度方向的深度为0.2~20μm且沿着所述表面的最大长度为1~10mm的凹部的数目为每1m<sup>2</sup> 5个以下, 所述水分散型粘合剂组合物的固体成分浓度为5~32重量%,所述粘合剂层的厚度为3~100μm, 厚度为23μm的所述粘合剂层的雾度值为1.0%以下。 |
地址 |
日本大阪府 |