发明名称 粘合剂层、粘合薄膜以及光学设备
摘要 粘合剂层是通过涂布水分散型粘合剂组合物并使其干燥而得到的。在粘合剂层的表面,厚度方向的深度为0.2~20μm且沿着表面的最大长度为1~10mm的凹部的数目为每1m<sup>2</sup>5个以下。
申请公布号 CN102947404B 申请公布日期 2015.04.01
申请号 CN201180031331.6 申请日期 2011.06.20
申请人 日东电工株式会社 发明人 下川佳世;冈田研一;高桥俊贵;木谷义明;下栗大器;卷幡阳介
分类号 C09J7/02(2006.01)I;C09J133/00(2006.01)I;C09J201/00(2006.01)I;G02B5/30(2006.01)I;C09J7/00(2006.01)I;C09J11/08(2006.01)I 主分类号 C09J7/02(2006.01)I
代理机构 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 代理人 刘新宇;李茂家
主权项 一种光学用粘合剂层,其特征在于,其为通过涂布水分散型粘合剂组合物并使其干燥而得到的粘合剂层, 在所述粘合剂层的表面,厚度方向的深度为0.2~20μm且沿着所述表面的最大长度为1~10mm的凹部的数目为每1m<sup>2</sup> 5个以下, 所述水分散型粘合剂组合物的固体成分浓度为5~32重量%,所述粘合剂层的厚度为3~100μm, 厚度为23μm的所述粘合剂层的雾度值为1.0%以下。 
地址 日本大阪府