一种纳米级图形化衬底的制造方法

摘要

本发明提供一种纳米级图形化衬底的制造方法，包括：提供衬底，在所述衬底上形成掩膜层；在掩膜层上旋涂或喷洒金属纳米颗粒，掩膜层的比热容大于金属纳米颗粒的比热容，金属纳米颗粒的熔点大于掩膜层的熔点；利用激光照射金属纳米颗粒，使金属纳米颗粒的温度达到所述掩膜层的熔点，以形成图形化的掩膜层；去除金属纳米颗粒；以所述图形化的掩膜层作为掩膜刻蚀所述衬底；去除所述图形化的掩膜层，形成纳米级图形化衬底。该方法利用激光对掩膜层上的金属纳米颗粒进行升温，使金属纳米颗粒的温度达到掩膜层的熔点，从而熔化与金属纳米颗粒接触的掩膜层，达到图形化掩膜层的目的，进而利用掩膜层图形化衬底。具有工艺简单，工艺成本低的优点。

主权项

一种纳米级图形化衬底的制造方法，包括：提供衬底，在所述衬底上形成掩膜层；在所述掩膜层上旋涂或喷洒金属纳米颗粒，所述掩膜层的比热容大于所述金属纳米颗粒的比热容，所述金属纳米颗粒的熔点大于所述掩膜层的熔点；利用激光照射所述金属纳米颗粒，使所述金属纳米颗粒的温度达到所述掩膜层的熔点，以形成图形化的掩膜层；去除所述金属纳米颗粒；以所述图形化的掩膜层作为掩膜刻蚀所述衬底；去除所述图形化的掩膜层，形成纳米级图形化衬底。