光掩模用基板和光掩模及它们的组、制造方法及转印方法

摘要

本发明提供光掩模用基板和光掩模及它们的组、制造方法及转印方法，在进行接近曝光时提高图案的转印精度。一种光掩模用基板，其用于在主表面上形成转印用图案而成为光掩模，在该光掩模用基板中，主表面上的图案区域的高度变动的最大值ΔZmax为8.5(μm)以下。

主权项

一种用于制造显示装置的光掩模基板，其用于在主表面上形成显示装置转印用图案而成为接近式曝光用光掩模，该光掩模基板的特征在于，在长边L1为600mm～1400mm、短边L2为500mm～1300mm的光掩模基板中，当将所述主表面上的转印用图案区域中，相隔10mm的相隔距离而等间隔地设定的各测定点相对于基准面的高度设为Z，并将所述Z的最大值与最小值之差设为ΔZmax时，ΔZmax为8.5μm以下。