发明名称 基于聚焦敏感成本协方差域之辅助特征布局
摘要
申请公布号 TWI479348 申请公布日期 2015.04.01
申请号 TW098126254 申请日期 2009.08.04
申请人 希诺皮斯股份有限公司 发明人 邦尼斯 李维;潘特 班哲明;颜启梁;范永发;李家梁;波拿瓦拉 艾米恩
分类号 G06F17/50;H01L21/027 主分类号 G06F17/50
代理机构 代理人 林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项 一种决定后光学近处校正(后OPC)遮罩布置内之辅助特征布局的方法,该方法包含:接收一组目标图案,其代表前OPC遮罩布置中的一组多边形;决定外形移动度量,其代表相关于聚焦的改变的外形之移动;在该组目标图案之边缘上积分该外形移动度量来获得聚焦敏感成本函数;决定其代表该聚焦敏感成本函数之改变的表式,当辅助特征被放置于一组候选位置中之候选位置上时;藉由评估该组候选位置中之各候选位置上的该表式而由电脑决定成本协方差域(CCF域);以及基于该CCF域产生该后OPC遮罩布置的辅助特征。
地址 美国