发明名称 | 晶圆处理设备(多腔室堆栈式) | ||
摘要 | 1.本外观设计产品的名称:晶圆处理设备(多腔室堆栈式)。2.本外观设计产品的用途:用于铜工艺的互连阶段,多孔性低介电常数材料集成的清洗。主要去除光刻胶残留、颗粒、通孔内的有机聚合物以及硅片边沿和背面的铜金属。3.本外观设计的设计要点:在于产品的形状。4.指定一幅最能表明设计要点的图片或照片:主视图。 | ||
申请公布号 | CN303151539S | 申请公布日期 | 2015.04.01 |
申请号 | CN201430353013.8 | 申请日期 | 2014.09.23 |
申请人 | 北京七星华创电子股份有限公司 | 发明人 | 赵宏宇;孙文婷;张豹;王锐廷;初国超 |
分类号 | 15-05(9) | 主分类号 | 15-05(9) |
代理机构 | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人 | 郝瑞刚 |
主权项 | |||
地址 | 100015 北京市朝阳区酒仙桥东路1号M2楼2层 |