发明名称 晶圆处理设备(多腔室堆栈式)
摘要 1.本外观设计产品的名称:晶圆处理设备(多腔室堆栈式)。2.本外观设计产品的用途:用于铜工艺的互连阶段,多孔性低介电常数材料集成的清洗。主要去除光刻胶残留、颗粒、通孔内的有机聚合物以及硅片边沿和背面的铜金属。3.本外观设计的设计要点:在于产品的形状。4.指定一幅最能表明设计要点的图片或照片:主视图。
申请公布号 CN303151539S 申请公布日期 2015.04.01
申请号 CN201430353013.8 申请日期 2014.09.23
申请人 北京七星华创电子股份有限公司 发明人 赵宏宇;孙文婷;张豹;王锐廷;初国超
分类号 15-05(9) 主分类号 15-05(9)
代理机构 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 代理人 郝瑞刚
主权项
地址 100015 北京市朝阳区酒仙桥东路1号M2楼2层