发明名称 光酸发生剂和包含该光酸发生剂的光致抗蚀剂
摘要 光酸发生剂和包含该光酸发生剂的光致抗蚀剂。本发明提供光酸发生剂化合物(“PAGs”)新的合成方法,新的光酸发生剂化合物以及包含这种PAG化合物的光致抗蚀剂组合物。一个特别的方面,提供含锍(S+)光酸发生剂以及锍类光酸发生剂的合成方法。提供了一种含锍化合物的制备方法,所述制备方法包括环合烷基硫代化合物。
申请公布号 CN102225924B 申请公布日期 2015.04.01
申请号 CN201010625286.4 申请日期 2010.12.10
申请人 罗门哈斯电子材料有限公司 发明人 李明琦;E·阿恰达;刘骢;J·玛蒂亚;C-B·徐;G·G·巴克利
分类号 C07D333/46(2006.01)I;C07D493/18(2006.01)I;C07C309/12(2006.01)I;C07C303/32(2006.01)I;C07C381/12(2006.01)I;C07J31/00(2006.01)I;G03F7/004(2006.01)I;G03F7/26(2006.01)I 主分类号 C07D333/46(2006.01)I
代理机构 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人 陈哲锋
主权项 一种含锍化合物的制备方法,所述制备方法包括环合烷基硫代化合物,其中含锍化合物与氟代磺酸连接,其中制备得到的含锍化合物选自下列通式(Ⅰ)和(Ⅱ):<img file="FDA0000557435510000011.GIF" wi="1120" he="948" />其中,每个通式Ⅰ和Ⅱ中,R是氢或非氢取代基,所述非氢取代基选自直链,支链或环状的C<sub>1‑20</sub>的烷基。
地址 美国马萨诸塞州