调节式布气系统及包含其的磁控溅射镀膜装置

摘要

本发明公开一种调节式布气系统及包含其的磁控溅射镀膜装置，包括至少两根平行设置的布气管，每根布气管上均设置流量计，相邻两根布气管上错列设置吹气部，吹气部是由多个规格相同的均匀排列的气孔构成，每个气孔沿布气管的径向开设，多个气孔在布气管沿其轴向依次布置。通过将布气系统设置为至少两根布气管，并在相邻两根布气管上错列设置吹气部，可以使布气系统吹出的气体能均匀的到达靶面，保证膜层均匀；通过在布气管上设置流量计，使气体的流量可实时的调节，即根据靶面距待镀膜物体表面的距离、镀膜厚度的不同，精确的调节气体的流量，并且能使各个布气管上吹出的气体的流量相等，达到实时控制、精确镀膜的目的。

主权项

一种调节式布气系统，其特征在于，包括至少两根平行设置的布气管，每根所述布气管上均设置流量计，相邻两根所述布气管上错列设置吹气部；每根所述布气管上均设置与磁控溅射靶的靶面的长度相匹配的吹气段，吹气段从上至下分为三段或四段，将其中的一段设置为所述吹气部，所有所述布气管上的所述吹气部的长度之和与磁控溅射靶的靶面的长度相匹配。