发明名称 |
提供流体用于浸液微影的装置及方法;APPARATUS AND METHOD FOR PROVIDING FLUID FOR IMMERSION LITHOGRAPHY |
摘要 |
本发明的实施例系指向控制流体流动及压力来提供用于浸液式微影之稳定状况的一种系统及一种方法。在该浸液式微影的制程期间,一种流体系被提供在一个介于该镜片与该基材之间的空间之中。流体系被供应到该空间并且系从该空间处经由一个多孔构件而被回收,而该多孔构件系以流体的方式与该空间相连通。将该多孔构件之中的压力维持在该多孔构件之起泡点之下系可以消除藉着在流体的回收期间混合空气与该流体所产生的噪音。在一个实施例之中,该方法系包含有以下的步骤:经由一个回收流体管线将流体通过一个多孔构件而从该空间处被抽出;以及,在将流体从该空间处抽出期间,将在该多孔构件中之流体的一个压力维持在该多孔构件的一个起泡点之下。; and maintaining a pressure of fluid in the porous member below a bubble point of the porous member during drawing of the fluid from the space. |
申请公布号 |
TW201512792 |
申请公布日期 |
2015.04.01 |
申请号 |
TW103140760 |
申请日期 |
2004.09.03 |
申请人 |
尼康股份有限公司 NIKON CORPORATION |
发明人 |
卡堤普 艾力克斯 KA TIM POON, ALEX;许伟峰 KHO, WAI FUNG |
分类号 |
G03F7/20(2006.01);H01L21/027(2006.01) |
主分类号 |
G03F7/20(2006.01) |
代理机构 |
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代理人 |
桂齐恒阎启泰 |
主权项 |
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地址 |
日本 JP |