CVD反应器的排气装置

摘要

提供了化学气相沉积反应器（10）及处理晶圆的方法。反应器（10）包括具有内部空间（26）的反应室（12）、与反应室内部空间连通的进气歧管（14）、包括具有通道（78）和一个或多个孔口（76）的排气歧管（72）的排气系统（70）、及安装在反应室内的一个或多个清洁元件（80）。进气歧管（14）可允许处理气体进入，以在保持在内部空间（26）的基片（58）上形成沉积。通道（78）可通过一个或多个孔口（76）与反应室（12）的内部空间（26）连通。一个或多个清洁元件（80）可在两位置之间移动，（i）是清洁元件远离一个或多个孔口的运行位置，（ii）是一个或多个清洁元件与一个或多个孔口（76）接合的清洁位置。

主权项

化学气相沉积反应器，包括：（a）具有内部空间的反应室；（b）与所述反应室的所述内部空间连通的进气歧管，用于允许处理气体进入以在保持于所述内部空间里的基片上形成沉积；（c）排气系统，包括具有通道和一个或多个孔口的排气歧管，所述通道通过所述一个或多个孔口与所述反应室的所述内部空间连通；及（d）安装在所述反应室内的一个或多个清洁元件，所述一个或多个清洁元件在两位置之间移动，（i）是所述清洁元件远离所述一个或多个孔口的运行位置，（ii）是所述一个或多个清洁元件与所述一个或多个孔口接合的清洁位置；其中所述反应室具有用于基片插入与取出的入口及安装至所述反应室的闸门，所述闸门可在两位置之间移动，（i）是所述闸门离开所述入口的打开位置，（ii）是所述闸门阻塞所述入口的关闭位置，所述一个或多个清洁元件安装在所述闸门上以与其一起移动。