使用改良化学品移除光阻用方法及设备;METHOD AND APPARATUS FOR REMOVAL OF PHOTORESIST USING IMPROVED CHEMISTRY

摘要

揭露于此的技术包括在不使用高浓度的有毒化学品以及不须频繁替换液浴的情况下用于自基板剥除光阻的方法与设备。本技术包括使用未实质溶解光阻而掀离光阻的化学品，配合使用机械搅动与高流体流动将移除的光阻机械性地碎裂成为小粒子。之后光阻粒子可藉由高流量的循环自晶圆附近移除离开处理槽。之后循环流可予以过滤以自循环流体中移除光阻粒子然后再度引入至处理槽中。一过滤系统亦可在循环期间或循环停止时自过滤器移除粒子。