附多层反射膜之基板、ＥＵＶ微影用反射型光罩基底、ＥＵＶ微影用反射型光罩及其制造方法、以及半导体装置之制造方法

摘要

本发明之目的在于提供一种给予获得高反射率、且耐洗净性优异之反射型光罩的附多层反射膜之基板。;本发明之附多层反射膜之基板，其具有：基板；多层反射膜，其形成于该基板上，且周期性地积层复数层包含作为高折射率材料之Si之层与包含低折射率材料之层而成；及Ru系保护膜，其形成于该多层反射膜上，保护上述多层反射膜；且上述多层反射膜之与基板为相反侧之表面层系上述包含Si之层，进而，于上述多层反射膜与上述Ru系保护膜之间具有阻碍Si朝向Ru系保护膜移行之阻挡层，且上述Si之至少一部分扩散至上述阻挡层。