位置计测装置、对准装置、图案描画装置及位置计测方法;POSITION MEASUREMENT APPARATUS, ALIGNMENT APPARATUS, PATTERN WRITING APPARATUS AND METHOD FOR POSITION MEASUREMENT

摘要

本发明提供一种使用能高精度地对基板相对于光束的位置进行计测的位置计测技术的位置计测装置、位置计测方法、以及对准装置及图案描画装置。本发明包括：拍摄部，在同一视野内，对于穿过基板中对光束具有透过性的第1透过部的光束、及第1透过部进行拍摄；及位置导出部，根据拍摄部所拍摄的图像来求出基板的位置。; and a position deriving portion deriving the position of the substrate according to images captured by the image capturing portion.