发明名称 研磨用组成物
摘要 本发明之目的系提供一种可充分控制含Si材料之研磨速率之研磨用组成物。;本发明之研磨用组成物含有于表面固定化有满足下述条件(1)及(2)之至少一者之官能基而构成之二氧化矽、与pH调整剂;条件(1):前述官能基具有胺基;条件(2):前述官能基具有卤基。
申请公布号 TW201512384 申请公布日期 2015.04.01
申请号 TW103128792 申请日期 2014.08.21
申请人 福吉米股份有限公司 FUJIMI INCORPORATED 发明人 铃木章太 SUZUKI, SHOTA;井泽由裕 IZAWA, YOSHIHIRO
分类号 C09K3/14(2006.01);H01L21/304(2006.01) 主分类号 C09K3/14(2006.01)
代理机构 代理人 林志刚
主权项
地址 日本 JP