发明名称 |
用以在离子植入系统中减少粒子污染的设备及用以在将离子植入一或更多工件内之过程中减少粒子污染的方法 |
摘要 |
|
申请公布号 |
TWI479533 |
申请公布日期 |
2015.04.01 |
申请号 |
TW099123437 |
申请日期 |
2010.07.16 |
申请人 |
艾克塞利斯科技公司 |
发明人 |
卡尔文 奈尔 |
分类号 |
H01J37/317;H01J37/02 |
主分类号 |
H01J37/317 |
代理机构 |
|
代理人 |
阎启泰 台北市中山区长安东路2段112号9楼;林景郁 台北市中山区长安东路2段112号9楼 |
主权项 |
一种用以在一离子植入系统中减少粒子污染的设备,该设备包含一外壳,此者系经组态设定以沿该离子植入系统的射束线所驻存,其中该外壳具有一入口、一出口和至少一具有复数个经定义于其内之进气口叶片的侧边,其中该射束线通过该等入口及出口,并且其中该至少一进气口叶片式侧边的复数个进气口叶片系经组态设定以机械方式过滤一沿该射束线而行旅之离子射束的边缘,其中该等复数个进气口叶片当在该离子射束之行旅方向上测量时系按相对于该射束线小于约90度所斜角化。
|
地址 |
美国 |