可翻新之经涂覆之化学机械硏磨调节器及其制造方法以及用于化学机械硏磨中的整合系统;REFURBISHABLE COATED CMP CONDITIONER, METHOD OF MAKING SAME AND INTEGRATED SYSTEM FOR USE IN CHEMICAL MECHANICAL PLANARIZATION

摘要

本发明提供一种具可移除并可翻新及/或可更换之调节扇形段之抛光垫调节器。调节扇形段包含陶瓷基板，陶瓷基板具有CVD金刚石沈积于接触抛光垫之外表面上。陶瓷基板之内表面存在有螺纹槽，扇形段利用螺纹槽而进行附装或自垫板移除。为重复利用，使扇形段自垫板分离并移除损坏之CVD金刚石涂层。接着将新的CVD金刚石涂层沈积于基板之表面上并将扇形段重新附装至垫板。本发明亦提供一种用于化学机械研磨之整合系统，整合系统具有组件，组件具有含有可更换之扇形段之接触表面，可更换之扇形段上沈积有CVD金刚石。扇形段可藉由更换CVD金刚石进行翻新。