发明名称 光学检验的系统与方法
摘要
申请公布号 TWI479583 申请公布日期 2015.04.01
申请号 TW098111147 申请日期 2009.04.03
申请人 南达科技有限公司 发明人 马克沃特 拉斯;奇伯 拉吉斯瓦;艾可尔 克劳斯;赫雷特 诺伯特
分类号 H01L21/66 主分类号 H01L21/66
代理机构 代理人 桂齐恒 台北市中山区长安东路2段112号9楼;阎启泰 台北市中山区长安东路2段112号9楼
主权项 一种晶圆检验系统,其包括:光学系统;一晶圆支撑架,用于将一具有预设晶圆直径的晶圆安置在该光学系统的一物件平面的某一区域中;一亮场光源;以及一影像侦测器,其具有一被设置在该光学系统的一影像平面的某一区域中的辐射敏感基板;其中,该光学系统会提供一成像射束路径和一亮场照射射束路径,并且包括一物镜以及一射束分离器,它们会被排列成a)使得下面元件会依照顺序被排列在该成像射束路径之中:该物件平面、该物镜、该射束分离器、以及该辐射敏感基板,以及b)使得下面元件会依照顺序被排列在该亮场照射射束路径之中:该亮场光源、该射束分离器、该物镜、以及该物件平面;以及其中,其会满足下面关系中至少其中一者:i)被成像在该辐射敏感基板上的物件场的直径会大于200毫米,而且从该物件平面至该影像平面的成像射束路径的总延伸长度会小于1100毫米;ii)从该物件平面至该影像平面的成像射束路径的总延伸长度除以该物件场直径会小于6.0;以及iii)该物件场的直径大于该晶圆直径的0.6倍。
地址 德国