アライメントセンサーとビーム測定センサーを備えている荷電粒子リソグラフィシステム

摘要

基板の表面にパターンを転写するためのマルチビームレット荷電粒子ビームレットリソグラフィシステム。前記システムは、前記基板の前記表面上に複数の荷電粒子ビームレットを投影するための投影系と、前記投影系に対して移動可能なチャックと、前記荷電粒子ビームレットの一つ以上の一つ以上の特性を測定するためのビームレット測定センサーを備えており、前記ビームレット測定センサーは、前記荷電粒子ビームレットの一つ以上を受けるための表面を有しており、さらに、位置マークの位置を測定するための位置マーク測定系を備えており、前記位置マーク測定系はアライメントセンサーを備えている。前記チャックは、前記基板を支持するための基板支持部分と、前記ビームレット測定センサーの前記表面を提供するためのビームレット測定センサー部分と、位置マークを提供するための位置マーク部分を備えている。