成膜方法及び成膜装置

摘要

実用に耐えうることは勿論、耐摩耗性能がより高められた防汚膜を効率よく成膜することができる成膜装置を提供する。複数の基板１４を保持するための基体保持面を持つ基板ホルダ１２が真空容器１０内に回転可能に配設された成膜装置１において、前記基体保持面の一部の領域に向けてイオンビームが照射可能となるような構成、配置及び／又は向きで真空容器１０内に設置されたイオン源３８と、前記基体保持面の一部で、かつイオン源３８によるイオンビームの照射領域の少なくとも一部と重複する領域に向けて成膜材料が供給可能となるような構成で真空容器１０内に設置された成膜手段としての蒸着源３４及び規制板３６とを、有する構成の成膜装置１である。