| 摘要 |
Die Erfindung betrifft eine optische Anordnung (1) für die EUV-Lithographie, mit: mindestens einer Vakuumkammer (2), die einen Vakuumkammerinnenraum (3) umschließt, mindestens einem optischen Element (8), welches in dem Vakuumkammerinnenraum (3) angeordnet ist, einer Wasserstoffzuführungseinrichtung (23), durch die molekularer und/oder aktivierter Wasserstoff (24a, 24b) zur optischen Oberfläche (25) des optischen Elements (8) zuführbar ist, einer Einhausung (28), die einen Einhausungsinnenraum (30) umschließt, in dem mindestens eine Komponente (33) angeordnet ist, die beim Kontakt mit aktiviertem Wasserstoff (24b) kontaminierende Stoffe (34) ausgast, sowie einen den Einhausungsinnenraum (30) mit dem Vakuumkammerinnenraum (3) verbindenden Öffnungskanal (35), der ausgebildet ist, eine Eintrittsrate von aktiviertem Wasserstoff (24b) von dem Vakuumkammerinnenraum (3) in den Einhausungsinnenraum (30) und/oder eine Austrittsrate der kontaminierenden Stoffe (34) von dem Einhausungsinnenraum (30) in den Vakuumkammerinnenraum (3) zu reduzieren. |
