发明名称 Modellbildungs- und Analyse-Maschine für eine kombinierte auf Röntgenstrahlung und optisch basierte Metrologie
摘要 <p>Strukturparameter einer Probe werden bestimmt, indem Modelle der Antwort der Probe auf die Messungen, die von unterschiedlichen Messverfahren in einer kombinierten Untersuchung aufgenommen wurden, angepasst werden. Modelle der Antwort der Probe von mindestens zwei unterschiedlichen Messtechnologien teilen mindestens einen gemeinsamen geometrischen Parameter. In einigen Ausführungsformen führt eine modellbildende und analysierende Maschine, röntgen und optische Analysen durch, wobei mindestens ein gemeinsamer Parameters während der Analyse gekoppelt ist. Der Fit der Antwortmodelle an die Messdaten kann, sequentiell, parallel, oder mittels einer Kombination von sequentieller und paralleler Analysen durchgeführt werden. Gemäß einem weiteren Aspekt wird die Struktur der Antwortmodelle basierend auf der Güte der Anpassung zwischen den Modellen und der entsprechenden Messdaten verändert. Beispielsweise wird ein geometrisches Modell der Probe basierend auf dem Fit zwischen den Antwortmodellen und der entsprechenden Messdaten restrukturiert.</p>
申请公布号 DE112013003491(T5) 申请公布日期 2015.03.26
申请号 DE20131103491T 申请日期 2013.07.08
申请人 KLA-TENCOR CORP. 发明人 BAKEMAN, MICHAEL;ZHAO, QIANG;TAN, ZHENGQUAN;SHCHEGROV, ANDREI
分类号 G01N21/00;G01N23/00;G06F19/00 主分类号 G01N21/00
代理机构 代理人
主权项
地址
您可能感兴趣的专利