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发明名称
研磨パッド
摘要
<p>ウェハー部の研磨レート不足による研磨レートの低下とウェハー面内均一性の悪化を抑制するため、研磨パッドは、少なくとも研磨層とクッション層を有する研磨パッドであって、前記研磨層には厚さ方向に貫通する複数の孔が設けられていると共に、前記研磨層の研磨面には複数の溝が設けられ、貫通孔率が0.13%以上2.1%以下であり、前記研磨面と該研磨面に連続する溝側面とのなす角度は、両側面とも105度以上150度以下である。</p>
申请公布号
JPWO2013039203(A1)
申请公布日期
2015.03.26
申请号
JP20120542724
申请日期
2012.09.14
申请人
发明人
分类号
B24B37/26;B24B37/22;H01L21/304
主分类号
B24B37/26
代理机构
代理人
主权项
地址
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