发明名称 |
一种常压化学气相沉积镀膜反应器 |
摘要 |
本发明公开了一种常压化学气相沉积镀膜反应器。该镀膜反应器特点为:反应器内部设计有强化对流和束流结构的混气室;反应器底部结构采用具有良好热导率的耐高温钢板;混气室出口采用狭缝结构,作为反应器镀膜气体喷嘴;反应器喷嘴处安装具有倒角结构的石墨挡块;反应器进气腔与排气腔采用完全对称结构;反应器镀膜进气与排气方向可以互换。该常压化学气相沉积镀膜反应器通过强化前驱体气体对流传热,提高反应热效率,能够使镀膜沉积反应在相对较低的温度下进行,降低镀膜能耗,拓宽镀膜温度窗口。本发明的设计思路新颖,设备维护简单,投资小,成本低,适合工业化或实验室设备应用。 |
申请公布号 |
CN104451601A |
申请公布日期 |
2015.03.25 |
申请号 |
CN201410718690.4 |
申请日期 |
2014.12.02 |
申请人 |
浙江大学 |
发明人 |
刘涌;韩高荣;宋晨路;汪建勋;刘新;沈鸽 |
分类号 |
C23C16/453(2006.01)I;C23C16/455(2006.01)I |
主分类号 |
C23C16/453(2006.01)I |
代理机构 |
杭州天勤知识产权代理有限公司 33224 |
代理人 |
胡红娟 |
主权项 |
一种常压化学气相沉积镀膜反应器,包括内部设有混气室的反应器主体,其特征在于,所述的混气室平铺在沉积基底或玻璃带上方,混气室底部设有导热板,所述导热板上设有作为反应器镀膜喷嘴的狭缝;与混气室连通的进气管和狭缝分别位于混气室的两对侧,所述的混气室为沿气流方向逐渐扩宽的广口状,混气室内还装有混流挡板,所述的混流挡板间具有迂回的气流通道。 |
地址 |
310027 浙江省杭州市西湖区浙大路38号 |